Начало выступлений: 11.00.

Приглашаются все желающие!

Список выступающих и темы докладов.

Сделать это лучше как можно быстрее, чтобы мы постарались
учесть ваши пожелания. Примерный список вопросов
будет обнародован в ближайшее время.

Начало занятия: 17.25.
Место проведения: аудитория 216л (Учебно-Лабораторный Корпус).

Основные докладчики, ведущие специалисты в области исследования плазмы: Hartmut Zohm, Julia Zimmermann – Институт Внеземной Физики (ИВФ) общества Макса Планка (Мюнхен, Германия), Владимир Фортов – Объединённый Институт Высоких Температур РАН (Россия), Randy Jakipii – Университет Аризоны (США), Tomas Hartquist – Университет Лидса (Великобритания), Hartmut Lowen – Университет Дюссельдорфа (Германия). Ссылка на фотоотчет указана ранее.

	Фото: Николай Демчук

11 апреля состоится симпозиум «Физика плазмы: от фундаментальной науки к прикладным исследованиям». В рамках которого будут прочитаны лекции специалистами в области пылевой плазмы.
Начало: 10.00.
Место проведения: 3 этаж, Конференц-зал, Учебно-Лабораторный Комплекс.

История промышленного применения нанослоистых структур началась в 1938 году, когда Кэтрин Блоджетт, талантливая соратница Ирвинга Ленгмюра, придумала и реализовала способ осаждения многослойных тонких и моноатомных пленок на твердые подложки. Так появилась «просветляющая» оптика, без которой сегодня немыслимо оптическое оборудование.Очевидные конкурентные преимущества, которые давали многослойные покрытия, привели к «взрывному» развитию технологий тонких слоёв и созданию соответствующего производственного оборудования. Технология оптических покрытий перешла к использованию металл-диэлектрических слоистых систем и термовакуумного оборудования для их получения.

Это позволило Ричарду Фейнману  в 1959 году в своей известной речи сказать, что технология тонких пленок – одна из немногих технологий «наномира», которую уже успешно осваивает человечество. На сегодняшний день индустрия многослойной оптики имеет годовой оборот сотни миллиардов долларов, оптические покрытия работают в диапазоне от теплового излучения до вакуумного ультрафиолета и находят повсеместное применение.

Прогресс в развитии термовакуумного оборудования для производства тонких многослойных пленок обеспечил другой качественный технологический скачок – производство гетероструктур. Человечество научилось моделировать и при помощи технологии молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) создавать вещества с заданными зонными свойствами. Теперь сотовый телефон можно положить в карман, маленький светодиодный фонарик излучает в ультрафиолете и на наших глазах происходит повсеместное вытеснение неэффективных ламп источниками на светодиодах.

С 70х годов прошлого века стало широко внедряться в промышленность вакуумное ионно-плазменное оборудование, позволяющее активно воздействовать на процесс формирования пленки и управлять её свойствами в процессе роста. Стало возможным создавать многослойные структуры, состоящие из тонких (толщиной в несколько атомов) однородных сплошных слоев разнородных материалов – искусственно-модулированные структуры. Открытый в 1989 году эффект гигантского магнитосопротивления в таких структурах привел к резкому увеличению плотности магнитной записи в последнее десятилетие – объем компьютерных дисков увеличился на несколько порядков, до терабайт.

В этой лекции я рассмотрю исторический аспект развития технологий производства многослойных структур на основе тонких пленок и моноатомных слоев. Будут приведены основные принципы получения многослойных пленок термовакуумным испарением, молекулярной-лучевой эпитаксией, ионно-плазменными методами, также будут обсуждаться свойства получаемых многослойных наноструктур.