Технологии работы с плазмой
Модифицирование поверхности
| Высокоэнергетичные частицы плазмы могут модифицировать поверхность тела. Ионы с энергиями порядка 50 кэВ создают в приповерхностном слое множество концентраторов напряжений. Таким образом, значительно увеличивается твёрдость и износостойкость материала. Это необходимо для современных высокотехнологичных устройств, таких как гироскопы.
 Процесс иммерсионной ионной имплантации
|
 Имплантация высокоэнергетичных ионов азота в титановую подложку |
Ионное травление
Распыление подложки высокоэнергетичными ионами из плазмы является одним из основных методом для производства современных микросхем. Пользуетесь компьютером? Он был сделан с помощью плазмы!
right: Распыление подложки высокоэнергетичными ионами
|
 |
Эта микросхема была изготовлена выскоэнергетичным ионным пучком |
Распыление ситалла сфокусированным ионным пучком |
Осаждение из плазмы
Частицы плазмы, образованной парами материала катода, могут осаждены на подложку. В результате можно получить плазменное покрытие, обладающее уникальными свойствами. В качество подложки может быть как инструмент для резки сталей, так и декоративные элементы из стекла и пластика. В зависимости от состава плазмы, мы может получать как металлические, так и керамические покрытия имеющие твёрдость, лишь немного уступающие алмазу. В результате возможно изготавливать инструмент, в несколько раз превосходящий твердосплавный по всем параметрам.
Формирование покрытия на положке |
Наноструктурированное покрытие TiN-AlN |
Плазменным инструмент для нанесения наноструктурированных покрытий, разработанный в нашей лаборатории |
Режущий инструмент с нанесённым плазменным покрытием |