Лаборатория «Технология плазменных покрытий и источников плазмы» занимается как совершенствованием, так и разработкой новых методов получения плазмы и плазменных покрытий. Область работ:
- Холловские источники ионов с замкнутым дрейфом электронов. Изучаются, проектируют и испытываются новые источники ионов с принципиально новыми характеристиками. Удалось добиться, чтобы ионный пучок имел не кольцевую форму, а сходился в виде конуса на заданном фокусном расстоянии. Профиль ионного тока в фокусе имеет Гауссово распределение. Стекло, помещённое в область действия ионного пучка взрывается в течение минуты!
- Магнетронные системы ионного распыления. Системы построены на постоянных и/или компактных электромагнитах большой мощности. Конструкция магнетронов позволяют создавать магнитные поля любой конфигурации и распылять ферромагнитные материалы.
- Вакуумные дуговые источники плазмы (plasma gun). Разрабатываются, изучаются и совершенствуются вакуумно-дуговые источники плазмы с пониженным содержанием капельной фазы и увеличенным ресурсом работы.
|
Ускорители, разработанные сотрудниками лаборатории, установленные в вакумной камере Заказчика
|
Разрабатываемые устройства поставляются и активно используются в современных нанотехнологиях. В частности, без источников ионов и магнетронных систем невозможно создание самого простого компьютера, а с помощью вакуумно-дуговых источников плазмы создаются нанокомпозитные износостойкие покрытия для современной промышленности.
|